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    真空箱式氣氛爐

      
    
      
    真空氣氛箱式爐廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發等領域。

      

      
    
      
    

      
    
      
    聯系電話：

      
    

      

      

      
    
      
    
     
        
         
      •  產品描述 
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        真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環境下進行高溫熱處理的精密實驗設備。該設備采用高潔凈度的石英腔體，配合精密的溫度控制系統與氣體氛圍調控系統，能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發等領域。
        系統參數：
        產品名稱
        真空箱式氣氛爐
        產品型號
        ZKX-200F
        最高溫度
        1100℃
        工作溫度
        ≤1000℃
        爐膛尺寸
        Φ210/φ200*385
        恒溫區
        Φ200*200mm
        承重范圍
        ≤2Kg
        爐膽材質
        石英
        加熱元件
        電阻絲
        測溫元件
        熱電偶K偶
        升溫速率
        0-1000℃≤10℃/min；1000℃~1100℃≤5℃/min
        控溫方式
        智能化30段可編程控制（PID獨立控制調節）
        控溫精度
        ±1℃
        真空度
        真空度：-0.1MPa（機械泵4L）
        水冷制冷量
        1.5w
        水冷容積
        6L
        額定電壓
        220V
        額定功率
        10KW
        爐體尺寸
        570*915*640mm（深*寬*高）
        標準配置
        氣路總成一套（含真空壓力表），石英膽一個，隔熱堵一個，鉤子一把，手套一副
        選配
        中真空度：≥10Pa（機械泵8L）
        高真空：＞6*10-2Pa（分子泵機組）
         
        
                    
                
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    關鍵詞：

      
    
      

      

      

      
 
      

      
    
      
    
      
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